类似F-16那样的气泡座舱倒是真好，但是这时候是肯定造不出来的，懂的权衡利弊，不贪心，也是应用研究的一条原则。
至于炸弹投得准不准的问题，通过其他办法解决。
瓷飞厂的同志虽然对这些东西还不见得有明确的概念，但毕竟是搞作战飞机的，非常敏感，这最后一种配置，明晃晃的就是想把这个攻击机往战斗机上引啊。
看给定的典型作战挂载，是能够看出飞机的使用设定的，几十年后的豹爷，不是不能挂中距空空弹，但是从来没看见挂过，因为在设计上，它就不是干这个事情的。
肖总看著这个建议，眼睛越来越亮，如果说其他建议都是修改攻-5的本事的话，那最后这个建议，直接影响到它的编制问题了。
不想当将军的厨子不是一个好士兵，总的来说，在军工人的内心里，战斗机总是比攻击机要帅那么一丢丢的。二十一世纪MOBA游戏里，大家都喜欢打输出位置，不就是因为这个嘛，帅啊！
高振东把这个建议写到信件里，就是引诱瓷飞厂这边的同志，想不想帅？想帅的话，你们那边使使劲儿啊，大家一起努力努力啊。
思忖良久，肖总下定了决心：“你们几位，加加班，在正常工作之外，仔细计算一下，以最新条件，将攻-5的设计指标按照这份邮件中的建议进行修改，同时性能尽量往战斗机方向倾斜，看看以战斗机的指标来要求，攻-5的底子能做到什么程度，能得到一个什么东西。”
想要改编制，先得有本事，先盘一盘攻-5的底子，看看够不够吸引人。
至于“最新条件”，自然是指现在的攻-5能用到的技术，这个世界的攻-5，比高振东前世看到的那个攻-5，条件要好很多，它可以得到更好的发动机、更好的装甲钢、更好的结构钢、更快更深入精度更高的设计计算……
“好的肖总！”几个人都很兴奋，搏一搏，自行车变摩托这句话虽然他们没听听过，但是道理还是懂的。
其中一位问道：“那翼身融合这个事情怎么办？”
肖总笑道：“先不考虑，就在现有技术条件下进行估算。这个没准可以作为百尺竿头更进一步的姿态出现呢。”
还没明朗的风险性技术，在做下限估计的时候就不要考虑进去了，但是这不等于肖总什么都不做。
“给我订去京城的票，我要去京城防工委走一趟，看看能不能弄清楚这个翼身融合的事情。攻-5战斗型的指标，你们算完了直接发我保密邮箱！”
这种性能估计都是根据经验和一些公式套著算的，计算起来其实很快。
他要去京城，其实不只是为了翼身融合，更大的目标是亲自向防工委那边的相关部门请教请教，看看事情有没有什么曙光。
防工委既然把这么一封特别的邮件转过来，就说明他们也不是完全没有态度的，但是最后能成什么样子，肯定得多方都努力才行。
有些情况，职工是不知道的，但是肖总心里有数，攻-5的前景，当前其实并不乐观。
这时候各个厂所一窝蜂上马，同一种武器各种仿制自制型号，各个厂所搞得是五花八门，可谓是泥沙俱下，良莠不齐，说好听点是百花齐放，说难听点是浪费资源。
日后的人在研究6爷、7爷这一代武器的谱系的时候，经常抠脑袋的孪生兄弟太多的问题，就是这种情况造成的。
这种情况，自然是要被调整的，但是调整到谁头上，这可没谱，毕竟大家的东西看起来都差不多。
高振东前世，攻-5的研制就是一波三折，上上下下，所以虽然其设计完成的时间很早，样机制造开始时间也早，但直到65年才首飞。
高振东这个挂逼知道攻-5最终会成为大名鼎鼎的一群“五爷”之一，但是肖总不知道啊。
对攻-5前途忧心忡忡的肖总，对于每一点机会，都是要争取的，更别说这封信里面透出来的防工委的态度，非常耐人寻味。
第525章 分辨率10m
第525章 分辨率10μm
瓷飞厂是下定了决心，肖总远赴京城，但高振东这边的事情，还远远没完。
此时的他，正在拿著防工委发过来的另一位五爷——轰炸机的资料，细细的计算著、考虑著。
他想撬动的可不只是攻-5装雷达这个事情。
就在他算得入神的时候，门被敲响了。
高振东起身开门，门口是易中海和五道口分来的师妹马娟，马娟性格虽然比较直，有些男子的英气，但是心却是很细的，正合适代表分厂的电子实验室跟进一下光刻机的组装事宜。
“高师兄，好消息好消息！”马娟不像伍升远那么一板一眼，在单位也叫高师兄，高振东听得还挺爽。
“光刻机组装好了？”她和易中海一起过来，除了这个不可能有别的。
“嗯嗯嗯，装好了，我们先试了试，各指标完全达标。”
“太好了，走，看看去。”高振东把手上的东西一收，站起身就往光刻机试制车间走。
易中海和马娟跟在后面，马娟笑道：“我们来的意思，就是想请你去主持一下最终的套刻精度试验。”
高振东连连点头：“嗯，要试，要试。走！走！”
其他的指标，可以说易中海带著大师傅们，在马娟的配合下基本上都完成了，这个套刻精度，算是最终的综合检验。
走进光刻机试制车间，透过玻璃看向超净室，展现在高振东面前的是一个像是化学试验室里通风试验橱的东西，或者说是像搞生物的带生物防护的显微装置，别的都看不出干啥的，就是那台显微镜贼显眼。
这台显微镜是用来人工对准和检查用的，主要解决套刻时的对准问题。高振东在掩模上设计了对准标志，但是对准这个操作，在这台光刻机上是人工操作，那台显微镜就是用来干这些事情的。
按说这机器高振东来来去去，改来改去也见过不少次了，可以算是老伙计了，但是这次看见，还是心里泛起了一阵激动。
可算是有结果了，这东西在高振东心里已经不是一台设备，而是一股气。
高振东前世，在网上对线多年，对手能喷的东西，从逮著啥就能喷啥，慢慢演变为能喷啥才说啥。
最后干脆成钉子户了，就在那少数几个领域蹲著不走了，任你东南西北风，我自巍然不动，嘴里只是说著“对呀对呀！……光刻机有几种光源，你知道么？”高振东看得愈不耐烦，拿著键盘走远。
走远归走远，这几样东西的确是到他穿越为止，还没完全拿下的，至少是高端的没拿下，光刻机就是其中一种。
他妈的，这辈子老子自己造一个玩玩，有几种光源我不知道，但是我知道这台能用，而且还挺好！
高振东自己也换上防护服，和几名试验人员走进了超净室。
试验人员早就把试验准备做好了，走进来之后，打开了几个开关，然后示意高振东：“高总，可以了。”
高振东拿起专用夹具，从带干燥剂的硅片架里，小心的夹起了一片单晶硅片，放到了工件台上，然后扳动开关，硅片被吸附固定。
这些单晶硅片已经经过清洗、干燥等处理，对光刻胶的附著力此时是最大的。
然后高振东退后一步，将接下来的试验交给了马娟。
要的就是一开始的那个爽感，至于具体操作，这些试验人员比他手脚麻利多了，专业的事情还是交给专业的人去做。
要说高振东这个光刻机原始，那是真的原始，固定好硅片后，马娟开动开关，硅片开始旋转。
这是高振东的设计，一步到位，光刻胶的涂布，他直接上了旋涂法，前世我们最早的光刻机是用什么方法涂布他不知道，但他知道综合性能肯定是旋涂法最好。
旋涂法在单晶硅片这种平坦的简单表面涂布，平坦化能力强，容易控制厚度，涂层密度大，厚度均匀，不是没有缺陷，但是可以接受和处理。
旋转很快达到了缺省的转速，在涂料确定的情况下，涂层厚度这些涂布结果参数与转速高度相关，旋转的同时，工件台也在对硅片进行加热，这是为了进一步去除表面重新附著的水汽。
这些小细节，都是高振东从前世带过来的，不起眼，但是很重要。
加热时间满足缺省要求之后，旋转也早已稳定，马娟拿起了滴管。
没错，就是化学试验用的那种滴管，一点儿都不高大上，但是对于高振东这个光刻机来说够用了。
滴管天生就有不太精确的计量功能，例如一毫升水大概是15滴，总之就是当液体的粘稠度确定的话，那从滴管滴出来的每滴液体的体积基本上是一致的，换支滴管也是一样，只要是正常的滴管都一样。
多余的光刻胶会被旋转的硅片给甩出去的，这也是旋涂的优点。
马娟往旋转的硅片中心滴了一些光刻胶，光刻胶很快随著旋转，沿著硅片表面匀开来，非常均匀，仿佛不存在一样。
这也是托光刻胶和硅片的粘附性很好的福，否则在上光刻胶之前，还得上一遍衬底，以加强光刻胶的附著。
硅片缓缓停止旋转，此时，工件台再次开始对硅片进行加热，这是在固化光刻胶。
固化完成后，马娟开始按动电钮，调整工件台，将硅片置于光学系统下的合适位置。
虽然高振东要求东北光学所的同志搞的是160mm直径的投影范围，不过考虑到拉晶的成品率，以及光学系统的最大畸变出现在最边缘的原因，现在还是将硅片的规格定在了130mm，也就是大概5英寸的样子，不过这是我们的原生工艺，自然就不会用英寸作为硅晶圆的计量单位。
作为最早最原始的光刻机，高振东使用的却并不是最原始的接触式光刻，这种方式硅片和掩模直接接触，分辨率比接近式要高。
但接触式光刻，硅片上的光刻胶或者个别灰尘，会污染和损坏掩模，用来搞研究可以，搞批产不太好。
他跨过接触式光刻，使用了接近式光刻，实际光刻的时候硅片和掩模之间有一个极小的距离，在10μm这个数量级，这样就可以避免掩模的损坏了。
坏处嘛，接近式光刻的分辨率比接触式的要差，最好的情况，大概在2μm的样子，这对于高振东现在来说是够用的。
使用接近式光刻，掩模和工件是分开的，这对于搞自动化光刻是有利的，这就是高振东将掩模放进光学系统的原因，掩模在光学系统里基本不动，运动的是工件台。
找平之后，工件台控制硅片向掩模接近，最终达到设计中所设定的距离——20μm。
这一次不用太过仔细的对齐，因为是第一次刻，严格对齐是套刻的事情，如果是套刻，还需要对齐套刻标记。
接下来就是曝光、显影，听起来和胶片机摄影差不多，实际上原理也基本上一致。
显影完毕，马娟开始用显微镜检查成像质量，耗时很长，估计她的眼睛都花了，最终她抬起头，面带喜色的向高振东点了点头。
这次的掩模，是工艺测试用标准掩模，看她这个样子，至少分辨率10μm是没问题了。
“高师兄，和我们以前测试的一样，线宽10μm没有问题，很稳定。”
如果成像质量有问题，那就得将硅片取出来，洗去光刻胶，准备从头再来。
这年头，硅片很贵的，不能浪费，哪怕是到了几十年后，硅片没那么贵了，但还得洗，如果问题出在工艺的中后期的光刻道次上，前面的工艺也贵啊！
高振东心中激动，向她点点头，示意继续。
接下来按照正常的集成电路工艺，应该是送到其他工序去，根据光刻目的的不同，进行诸如蚀刻、掺杂、离子注入、金属去除等，但是这是测试光刻机的分辨率和套刻精度，这工序就不用做了，而且也没法做，这儿没那些东西。
比如蚀刻，看起来简单，腐蚀就行，但实际上背后靠著一整条比较特殊的安全管理线，这边也创建一条那玩意，就搞麻烦了，又不是经常要用到。
就更别提掺杂这些需要设备的工序了，更是没法做。
考虑到显影之后，光刻胶就只剩下了需要的那一部分，试验人员的想法，是再上一次光刻胶，看看两次光刻显影结果的重迭程度。
这也算是个笨办法，如果这种情况下，旧光刻工艺的残余物影响到新一次的光刻胶附著，导致试验效果不好的话，再考虑光刻——送1274蚀刻——光刻这个试验流程。
光是线宽10μm，其实光刻机的制程是到不了10μm的，因为决定光刻机制程的，还有其他参数，其中很重要的一个就是套刻精度，也正是今天高振东最终要测试的东西。
凡是做集成电路，哪怕工艺简单如PMOS，都是需要套刻的，因为一次光刻连电晶体都做不出来，更别说形成完整电路了。
第526章 咱们工人有力量
工件台又一次加热硅片，给工件做了一次坚膜，加固已经保留的光刻胶，进一步清除不需要的那部分胶以及其他成分的残留物。
坚膜完成之后，硅片被再次从头开始，开始了第二次的光刻流程，用的还是那块标准掩模。
显影完成后，二次光刻的光刻胶被固化，多余部分被清除，硅片被送到了显微镜下。
刚刚把硅片表面的清晰显微图像跳出来，马娟就语带欣喜的啊了一声。
“师兄，有了有了，能看出来，精度好高啊！”
马娟一边瞄著显微镜，一边嘴里喊著。
对于套刻精度高这一点，高振东是有所预计的，决定套刻精度的主要就是工件台，而三轧厂的一帮老师傅大发神威，将工件台的定位精度搞到了1.5μm。
而东北光学所的光学系统图形畸变只有1个μm不到，这两者结合起来，套刻精度绝对差不了。
不过估计归估计，在没看到真正结果那一天，谁都不敢彻底把心放下来。
听见马娟的话，高振东哈哈大笑：“来来来，我看看。”
马娟从显微镜下让开，高振东把眼睛凑到显微镜的目镜外，显微镜里甚至能看到他自己的眼睫毛，但他现在明显没有闲心观察自己的睫毛是否好看，急著往视场里看去。
显微镜里，两次光刻的痕迹非常明显，一条迭在另一条上面，重合度非常高。
两次光刻的痕迹，两边各露出来一小部分，这部分的单边宽度，基本上就是套刻误差了，粗粗看去，目测连整个线宽的一小半都不到。
“好！太好了！马娟，你们选取一些典型点位，要覆盖到整个硅片，马上做个比较全面的测量比较。”
另外一个试验人员走了上来，和马娟一起，一边找点，一边测量，一边记录。
时间的相对论在这里体现得淋漓尽致，马娟她们觉得时间过得很快，而等结果的高振东等人觉得时间过得太慢了。
又快又慢的一段时间过去后，试验人员在计算机面前坐下来，开始将数据输入计算机，这种简单统计分析，他们都是直接在源代码里敲数据。