许秋没有拒绝，像《自然》、《科学》这种档次的期刊，对于图片方面的要求也非常高，如果有专门的美工帮忙修图，可以为自己的工作增色不少，略微提高中稿率。
他把田晴的名字加到了《科学》文章的第五位，排在了韩嘉莹的后面，两名本科生、学姐、龚远江和魏兴思的位置向后移动一位。
和上次的《自然·能源》文章一样，现在的《科学》文章同样是十位作者。
陈婉清同样没有汇报，划水中。
按理说段云和陈婉清这种要毕业的学生，是可以不参加组会的。
不过，魏兴思对这方面比较固执，明确表示平常你们可以不来，但组会必须到场。
接下来，韩嘉莹开始汇报，她的PTQ1工作，已经开始撰写文章，目标期刊AM，同样打算在放假之前把文章投出去。
她现在已经大四下学期，因课程已经几乎修读完毕，考试没有什么压力，所以可以把主要的精力都投入到科研当中。
邬胜男延续了之前许秋Y1-Y4系列材料的工作，一边帮许秋做表征实验，一边开始做合成，目标产物有Y5、Y6、Y7。
许秋看到邬胜男选择的体系，部分是自己之前已经在模拟实验室中做过，却没有取得突破的体系。
不过，许秋也不好提醒，总不能说自己可以未卜先知吧。
而且这些体系做一做也蛮好的，不管性能好坏，总归这些工作还是要有人来做的。
只是许秋当前的目标是冲击CNS，所以把这么边角料的工作都给放弃了。
对于Y系列材料来说，即使是边角料，发几篇AM也不是很难。
毕竟效率是摆在那里的，单结器件超过14%的效率，现阶段拿出来没人能打的过。
莫文琳上周忙着考试的事情，因为有连续两门考试，所以在实验方面就划水了一周。
几个本科生，都没有过来参加组会，他们大二大三的课业压力确实也不小。
新来的范文堂倒是周一跑了过来。
不过，魏兴思没有主动提让他来参加组会，范文堂也识趣的没有主动提出要参加。
毕竟，现在也算是学生和导师之间的互相考察期，不太适合过多的参与课题组的各种事情当中。
尤其现在是组里正在冲击《科学》的关键时期，还是要避避嫌的。
接下来几天，许秋一边继续修改《科学》文章，一边制备叠层器件。
准确来说，是看别人制备叠层器件。
实验者由原先的学妹，变更为了莫文琳，因为后者已经考完了试，所以得到了解脱。
而学妹在换了换口味，做了批器件后，重新回归自己PTQ系列给体工作的文章撰写上。
主要也是许秋有了“真空放置”的实验结论后，基本上排除了实验者方面的影响，也就没有让学妹继续重复做器件。
这周，许秋还有最后一门考试，需要同时进行开卷考试和PPT演讲，类型和之前的《无机功能材料》与《复合材料》类似，他自认可以轻松拿下。
许秋估计自己这学期三门专业课大概率都是A，再加上一门免修的英语课，和一门成绩为P（通过）的《实验室安全教育》。
算起来，10多学分的满绩点，还是非常厉害的。
当然，这主要和研究生期间的课程安排比较“纯粹”有关，大多数都是专业课。
而本科的时候，课程中混杂了很多政治课、通识选修课程。
在这些课程上，需要和文科生PK。
而许秋实在是PK不过他们文科生，所以拿了不少B和B+，绩点就被拉到了3.5。
之所以PK不过，是因为文科生，比如国际经济与贸易专业，他们保研的名额非常少，非常的卷。
绩点3.6以上都是保研大军中垫底的存在。
因此，他们每门课都要力争拿A。
而材料系保研绩点要求2.8，实际录取的时候，绩点要求差不多3左右，也就是平均成绩为B的学生就可以保研。
因为有很多B+无限的课程，所以哪怕没有一门课能拿A，只要不是太划水，想保研都能保研得上。
当然，由于内卷化的存在，材料系的保研门槛也将越来越高。
据说在前一届，也就是田晴的时候，2.8就能上，现在许秋这一届就已经3.0了，之后可能要3.2、3.4……才能保研保上了。
除了自己课程的考试外，许秋这学期还有助教的身份，需要在考试周进行监考。
一般助教都会参与他们负责课程的监考，但是魏兴思的课程因为没有考试，所以许秋就被分配到了其他课程上。
是另外一个名叫《智能材料》的本科生课程，闭卷考试，地点在双子楼的西辅楼。
许秋在约定考试时间前十分钟来到教室，这边的考生已经来的差不多了，老师也已经站在了讲台上，手上是一沓试卷。
这门课程的授课老师名叫汪继增，一个青椒副教授，在院系里的存在感不高，年龄不大，约莫三十岁出头，不过头发已经有些稀疏了。
汪继增和许秋友好的点点头，也没有太多的话。
这种院系内部的监考相对比较随意，不太会管的太严。
作弊自然是存在的。
每年魔都综合大学都有因为作弊被抓，然后背上处分，基本上是留校察看起步，甚至还有被开除的。
之前有一个妹子帮男朋友代考高数，结果被抓到了，妹子和她男朋友双双被开除，emmm……
据说妹子的家长过来哭的稀里哗啦的，但是并没有什么用处。
因为当时他们是被抓了当做典型，所以惩处力度非常大。
这就和国家严打一样，平常期间犯了事，可能小问题的话，关几天就出来了，严打期间一律从重处理。
刚好赶上了，只能说运气不好。
因为这种事情，被暴露出来的只是冰山一角，没有被曝光的才是大多数。
至少许秋在之前考试过程中，作为考生的视角，亲眼所见到的学生作弊情况，就不下十次。
有一次还有人被现场抓了，但老师只是没收了对方的作案工具，并没有追究。
大多数老师都还是比较“仁慈”的。
钟声响起，考试开始。
双子楼可能因为是办公和教学两用的楼，所以没有像二教、三教、四教一样用的铃声，而是采用的是一段悠扬的钟声。
许秋帮汪继增分发完试卷后，在后排找了个位置坐下，也不打算主动出去巡视。
汪继增则坐在讲台上。
监考还是比较无聊的，因为长时间只能干坐着，原则上也不能玩手机。
之前许秋还看到一个助教因为太过无聊，找老师要了一套卷子，自己做了起来……
不过，许秋有消磨时间的手段，他直接进入了模拟实验室中，查看这几天摸索的结果。
PS：昨天月票数居然冲到了2200+，书友们真给力啊！感谢大家的支持！
PS2：新的四月，扬帆起航，大家月末的月票存货这么多，想必都有保底月票吧……求保底月票……
467 17%效率达成，为国争光！（求月票）
模拟实验室中，许秋发现将“真空放置一段时间”和“顶电池三元化”两种策略综合在一起，确实能够实现1+1>1的效果。
不过，现阶段的最高器件效率仍然没有突破17%，只有16.94%，相较于前值的16.66%和16.83%，提升幅度并不高。
许秋估计是因为摸索时间比较短的缘故。
这种开创性的摸索工作，只能交给模拟实验室III来进行。
模拟实验室III中，只有两个高级模拟实验人员，就算它们24小时不间断的工作，加起来的工作效率也只有现实中的十倍左右。
对于普通器件的体系来说，模拟实验室III出马，耗费一两天的时间，就相当于现实中连续工作十多天、二十多天，足够把条件摸索的较为完美。
而叠层器件的摸索工作非常的繁琐，给模拟实验室几天的时间显然是不够的。
虽说如此，模拟实验室其实已经做了不少的工作，初步得到了器件效率随顶电池和底电池厚度变化的二维图谱。
只是这个二维图谱的精度不够，还需要进一步的实验，把最佳条件给找出来。
许秋从二维图谱中，找到了两根主要的等效率线。
14%等效率线：顶电池厚度处于90-180纳米范围内，底电池厚度处于120-300纳米范围内的条件下，得到的叠层器件效率，在大多数情况下可以达到14%以上。
16%等效率线：顶电池厚度处于120-150纳米范围内，底电池厚度处于180-210纳米范围内的条件下，器件的效率大多数情况下可以达到16%以上。
之所以说是大多数情况，是因为得到的等效率线并不是一个矩形，而是一个近似于三角形的样子。
也很容易理解，比如在第一种14%等效率线的条件下，选取两个边界条件，顶电池厚度90纳米，底电池厚度300纳米，这样得到的器件性能肯定不会很高。
因为底电池做的非常的厚，它会吸收较多的光，短路电流密度较高，而顶电池厚度比较薄，得到的短路电流密度较小，难以和底电池相匹配，进而就会造成器件性能损失。
因此，现在许秋要做的事情，就是在16%等效率线中，把最高效率点给找出来。
他打算亲自上阵，进行实验。
之前模拟实验人员摸索的时候，是以30纳米厚度做为间隔摸索的。
许秋准备以10纳米为精度，那么顶电池厚度120-150纳米范围内，一共有4个档次，底电池厚度180-210纳米范围内，同样有4个档次，也就是一共要摸索4*4=16种条件。
如果每种条件制作3批器件，每批器件重复3片，一共16*3*3=144片，这太多了，一个半小时绝对做不完。
如果每种条件制作2批器件，每批器件重复2片，一共64片，好像还是挺多的样子。
思索片刻，许秋决定继续降低标准：
每种条件制作1批，每批器件重复1片，那么总器件数量就缩减到只有16片。
一般光伏器件都要重复10批以上，但现在许秋没有那么多时间，就只能希望自己欧一些，可以一发入魂，突破17%！
考虑到接下来的实验工作可能会消耗比较多的时间，许秋先是回到现实。
他看了看周围，发现没有什么异常情况，然后调整了一个比较舒服的坐姿，重新返回到模拟实验室中。
接着，许秋开启了尘封许久的模拟实验室I。
随着系统的不断升级，模拟实验室I现在已经可以开启最高64倍的加速功能。
不过，因为模拟实验室II和III可以自动挂机的缘故，所以许秋很少用模拟实验室I。
但其实，64倍的加速，这个功能还是非常强大的。
对于蒸镀操作来说，本来要抽一个小时的真空，在64倍速的条件下，就只需要一分钟的时间。
蒸镀过后要放置12个小时，64倍速换算过来，也只要10分钟。
当然，积分消耗也是非常的夸张，64倍速使用一个小时，就需要消耗6400积分。
好在许秋现在剩余积分非常的多，有20多W，足够他挥霍了。
模拟实验室I中除了可以加速外，还有不少其他额外的好处。
一方面，基片不用清洗。
而且，最近因为在做叠层器件，所以现在的基片都已经按照最佳的条件，旋涂好了用于叠层器件的两层传输层，氧化锌和PFN-Br。
因此，可以直接从底电池的有效层开始旋涂，从而节省大量的时间。
另一方面，模拟实验人员已经通过若干次旋涂实验，结合光吸收光谱仪、扫描电子显微镜等手段，得到了旋涂转速和膜厚之间的对应关系。